据了解，朗道燧岩在2026年中国国际工业博览会上首次展示了其EUV光源系统样机。这款样机的国产化率达90%，绝大部分核心部件为自主研发，技术方向与国际主流保持一致，预计距离正式量产需3到5年时间。随着研发的推进，荷兰ASML公司所担忧的局面正逐渐成形。余承东的观点即在于，EUV光刻机研发正在稳步进行，这一进展虽然不算迅速，却相当扎实。
研发团队来自清华大学的气体放电等离子体实验室，在EUV光源领域潜心耕耘多年，此次成果彰显了前期技术积累的成效。EUV光源对先进制程芯片的制造至关重要，同时也是对抗西方半导体管制的关键。没有成熟的EUV光源，7纳米以下芯片的制造将无从谈起。从过去的全面禁运到目前美国加大管制力度，情况层层加码，而阿斯麦首席执行官富凯也曾表示，出口限制只会加速中国的自主研发。
这一情况在中国科技发展史上屡见不鲜。例如，北斗导航系统在失去伽利略合作机会后，成功建立了全球领先的平台；在国际空间站合作受阻的情况下，中国自主建设了太空站。每次技术封锁最终都推动了自主创新。在半导体领域，国内企业不断取得突破，中微公司已研发出54种高端设备，其技术正逐渐进入全球先进市场，而EUV光源的进展则标志着行业整体向系统化发展迈进。
朗道燧岩的成果，不仅意味着“阿斯麦不会被立即取代”，更重要的是将EUV光源的研发从“无法制造”转变为“已成功制造，接下来将进行工程化”。虽然从样机到稳定量产及国际水平的性能、良率仍面临诸多挑战，3到5年只是产业化的第一步，依然不能放松。但这一进展的象征意义不可小觑，打破了对“EUV光源无法由中国人制造”的成见，为整个产业链注入了信心。随着一个个核心技术的突破，中国半导体产业正在稳步而坚定地走向突围之路。
发表评论